UVISION 7 מכונה חדשה לגילוי פגמים לדור ה 10 ננומטר

14מרץ2016

עם התקדמות הטכנולוגיה והירידה בעובי הקוים המודפסים בתהליכי המוליכים למחצה עד ל-10 ננומטרים ומעבר, עולה הצורך של יצרניות השבבים לסריקת פגמים ברמה גבוהה. צורך זה נובע בין השאר מהכניסה של מבנים סבוכים וחומרים חדשים לייצור המוני. מפעלי הייצור לשבבים (ה-Fabs) של היום דורשים טכנולוגית בקרת תהליך המזהה פגמים קריטיים בכמויות בעלת משמעות סטטיסית, משפרת את מהירות הייצור ומגדילה את התפוקה.

עם הירידה במיימדי הטרנזיזטורים ורכיבי הזכרון, נוצרת משוכה חדשה ההופכת את התהליך לסבוך עוד יותר – האות האופטי המתקבל מהפגם הופך לקטן גם כן, ונהיה קשה יותר להביל בין הפגם "ההורג" לבין הפגם "המפריע" שאינו פוגע ביעילות השבב. היכולת להפריד בין השניים תלויה רבות בשימוש בטכניקות הדמיה מתקדמות.

על מנת להתמודד עם משימה זו, מכונת ה-UVision 7 של אפלייד משתמשת בטכנולוגית סריקה אופטית המשלבת העברת מידע אופטי כפול בערוצי גילוי שלbrightfield  ו-greyfield, בשילוב עם קלט של CAD ומידע נוסף המגיע מהלקוח, לאופטימיזצית ההפרדה בין פגמים הורגים לפגמים מפריעים בעיצוב תלת ממדי מתקדם.

אתם מוזמנים לצפות בסרטון הוידאו בו אני מספרת על החדשנות הטכנולוגית ויכולות המכונה.